一、 設備特點本系統專為脫硝系統、垃圾焚燒煙道等固定污染源場景自主研發設計，核心解決高溫、高濕、高腐蝕、高粉塵等惡劣環境下的氣體監測難題。系統以模塊化激光分析儀與高溫預處理系統為核心技術支撐，可精準檢測煙道中1-3ppm微量逃逸氨氣，同時兼容HCL、HF、NH?等多種污染物濃度監測，性能穩定可靠。

系統采用半導體量子級聯激光器作為光源，搭配高穩定性光路設計及信號處理技術，大幅提升TDLAS光學傳感技術的精度與穩定性，有效解決傳統近紅外分析技術穩定性差、測量精度低、零點漂移大等痛點，全面匹配市場對復雜工況下氣體監測的嚴苛需求。

強抗干擾適配性? 采用TDLAS激光光譜技術，僅對氨分子特異性識別，不受煙氣中SO?、NO?、高粉塵等組分干擾，適配化工高腐蝕煙 場景。?高精度低量程監測? 檢出限低至0.1ppm，測量誤差≤±2%F.S.，可精準捕捉SCR/SNCR工藝出口的微量逃逸氨，滿足≤3ppm的行業管控要求。?全程防吸附設計? 采樣管路全程120-190℃高溫伴熱，避免氨溶解吸附，保障從采樣到分析的全流程數據無損失。?高可靠工況適配? 探頭采用316L防腐材質，內置高壓高頻反吹系統，防粉塵堵塞，平均運行時長超15000小時。?智能聯動管控? 支持4G/以太網/RS485多協議通訊，可直連化工DCS系統與環保監管平臺，氨濃度超標時自動觸發噴氨量聯動調節。

三、核心領域

系統廣泛適用于各類固定污染源氨逃逸及污染物監測場景，核心應用領域包括：

電力、建材及通用工業：電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業鍋爐等企業固定污染源氨逃逸監測；

焦化行業：煉焦企業固定污染源氨逃逸監測；

化工行業：化工廠固定污染源氨逃逸及多污染物監測。